Intel pokrenuo razvoj 10A i 7A procesa, a 14A ostaje na putu prema listopadskom PDK-u

Izvršni direktor Intela Lip-Bu Tan potvrdio je da je tvrtka već počela raditi na proizvodnim tehnologijama 10A i 7A, koje bi u sljedećem desetljeću trebale naslijediti sadašnji 18A i budući 14A proizvodni čvor. Tan je pritom naveo i da Intel želi graditi dugoročan poslovni odnos s partnerima kroz jasnu kartu razvoja, a ne samo kroz pojedinačne proizvode.

Za 14A Intel navodi da razvoj napreduje prema planu. Verzija 0.5 process design kita (PDK) već je dostupna, a verzija 0.9 očekuje se u listopadu. Tan je rekao da je v0.5 PDK dovoljno napredan za testne čipove kojima se može provjeravati yield, dok bi v0.9 trebao biti ključan korak za vanjske kupce. Internim kupcima verzija bi trebala biti dostupna ranije.

Tan je također rekao da je više kupaca pokazalo interes za 14A, ali Intel ih zasad nije objavio. Prema njegovim riječima, s tim kupcima se radi na definiranju toga koji proizvod žele, gdje bi se proizvodio i kakav kapacitet je potreban. Istodobno je naglasio da kupce neće otkrivati bez njihove želje da to sami učine.

Intel za 14A očekuje risk production 2028., a volumen proizvodnje 2029. godine. To je otprilike vrijeme kada TSMC planira volumen proizvodnje na svojoj A14 tehnologiji. U istom razdoblju Intel računa i na kompatibilnost 14A čvora s High-NA EUV litografskim sustavima za određene slojeve, a 14A bi trebao biti i prvi proizvodni čvor s mogućnošću korištenja takvih skenera u visokoj serijskoj proizvodnji.

Uvođenje novih High-NA EUV alata, uz nove fotootpornike, fotomaskice, pelicule, metrologiju, dizajnerska pravila i računalne litografske tokove, za Intel neće biti jednostavno. Tvrtka zato surađuje s ASML-om i partnerima kako bi cijeli ekosustav bio spreman za širu primjenu. Christophe Fouquet, čelnik ASML-a, prema navodima je rekao da bi se prvi testni čipovi izrađeni tim alatima trebali pojaviti u idućim mjesecima, ali nije naveo kod kojeg dobavljača ili u kojem pogonu.